中微公司在等离子体刻蚀技术领域实现重大突破 近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)宣布通过不断提升反应台之间气体控制的精度, ICP 双反应台刻蚀机 Primo Twin-Star® 又取得新的突破,反应台之间的刻蚀精... 科技资讯# 中微公司# 半导体 1个月前56.5K
德国新一轮半导体补贴计划吸引大量申请:资助资金存在 200% 缺口 德国经济部表示补贴计划接收到的申请数量几乎是预期的三倍,宣称投资规模之和达到了 130 亿欧元。 科技资讯# 半导体# 德国 2个月前50K
我国科学家国际首创 8 英寸硅基氮极性氮化镓衬底、全国首个 100nm 高性能氮化镓流片 PDK 平台 九峰山实验室官方公众号于 3 月 22 日发布博文,宣布以氮化镓材料为核心,国际首创 8 英寸硅基氮极性氮化镓衬底(N-polar GaNOI)、创新推出全国首个 100nm 高性能氮化镓流片 PDK... 科技资讯# 半导体# 氮化镓 2个月前62.3K